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本儀器是一種具有兩個蒸發源的高真空蒸發鍍膜儀，鎢絲籃（或鎢舟）用作蒸發源，并且樣品臺和蒸發源之間的距離是可調的。 該儀器可以穩定地蒸發金屬和某些有機物。 采用高真空不銹鋼腔體，密封性能好，真空性能好。 該腔室配有觀察窗，因此可以看到涂層過程。 采用分子泵系統的**真空10E-4Pa，可有效提高涂層質量，并能滿足大多數蒸發涂層實驗所需的真空環境。
高真空熱蒸發鍍膜儀用途：
高真空雙源熱蒸發鍍膜儀適用于蒸發涂覆大多數金屬和某些有機材料薄膜。
高真空熱蒸發鍍膜儀技術參數：
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產品名稱 |
高真空雙源熱蒸發鍍膜儀 |
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產品型號 |
TN-EVV195-II-HH-SS |
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樣品臺 |
位 置 |
頂部設置 |
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外形尺寸 |
直徑φ65mm |
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轉 速 |
0-20 rpm |
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間 距 |
樣品架和蒸發源之間的距離可調 |
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可調溫度 |
≦500℃ |
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熱蒸發源 |
鎢絲籃×2個，鎢舟×2個 |
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蒸發電源 |
每個蒸發源配一組獨立電源；雙個蒸發源可同時共蒸 |
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真空腔體 |
腔體尺寸 |
直徑φ195mm×H210mm |
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觀察窗口 |
直徑φ100mm |
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腔體材質 |
304不銹鋼 |
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開啟方式 |
前開門式 |
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膜厚測量 |
晶體膜厚測量儀（也可選膜厚控制儀） |
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真空系統 |
前級泵 |
雙極旋片泵，氣體抽速1.1L/S |
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次級泵 |
渦輪分子泵,氣體抽速600L/S |
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真空測量 |
復合真空計(電離規+電阻規) |
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系統真空 |
5×10-4Pa |
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控制系統 |
CYKY自研專業級控制器 |
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其他參數 |
供電電源 |
AC380V,50Hz |
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整機尺寸 |
600mm×650mm×1500mm |
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整機功率 |
7KW |
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整機重量 |
260kg |
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