單靶直流磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備，具有標準化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英寸3英寸可以選擇，客戶可以根據所鍍基板的大小自主選擇；所配電源為1500W大功率直流電源，可用于高能量的金屬濺射鍍膜，根據實驗需求也可以選配其他規格的直流或者射頻電源來實現各種材料的鍍膜操作。

鍍膜儀具有兩路高精度質量流量計，客戶若另有需求可以定制至多四路質量流量計的氣路，以滿足復雜的氣體環境構建需求；儀器標配先進的渦輪分子泵組，極限真空可達1.0E-5Pa，同時另有其他類型的分子泵可供選購。分子泵的氣路由多個電磁閥控制，可以實現在不關泵的情況下打開腔體取出樣品，大大提高了您的工作效率。本產品可以選配一體機工控電腦對系統進行控制，在電腦程序上可以實現真空泵組的控制、濺射電源的控制等絕大多數功能，可以進一步提高您的實驗效率。

單靶磁控濺射鍍膜儀適用范圍：

該設備可用于制備單層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優點，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備，特別適用于實驗室研究固態電解質及OLED等。

單靶磁控濺射鍍膜儀技術參數：

單靶直流磁控濺射鍍膜儀
樣 品 臺	外形尺寸	φ185mm
	加熱范圍	室溫～500℃
	可調轉速	1-20rpm可調
磁 控 靶 槍	靶材平面	圓形平面靶
	濺射真空	10Pa～0.2Pa
	靶材直徑	50～50.8mm
	靶材厚度	2～5mm
	絕緣電壓	>2000V
	電纜規格	SL-16
	靶頭溫度	≦65℃
真 空 腔 體	內壁處理	電解拋光
	腔體尺寸	φ300mm × 300mm
	腔體材料	304不銹鋼
	觀察窗口	石英窗口，直徑φ100mm
	開啟方式	上頂開啟，氣缸輔助支撐
氣 體 控 制	流量控制	質量流量計，量程0～200SCCM氬氣
	調節閥類型	電磁調節閥
	調節閥靜止狀態	常閉
	測量線性度	±1.5%F.S
	測量重復精度	±0.2%F.S
	測量響應時間	≤8秒（T95）
	工作壓差范圍	0.3MPa
	閥體耐壓	3MPa
	工作環境溫度	（5～45）℃
	閥體材料	不銹鋼316L
	閥體漏率	1×10-8Pa.m3/s
	管道接頭	1/4″卡套接頭
	輸入輸出信號	0～5V
	供電電源	±15V（±5%）（＋15V  50mA,  －15V  200mA）
	外形尺寸mm	130（寬）×102（高）×28（厚）
	通訊接口	RS485 MODBUS協議
直流電源	電源功率	500W
	輸出電壓	0～600V
	定時長度	65000秒
	啟動時間	1～10秒
膜 厚 測 量	電源要求	DC:5V（±10%） *大電流 400mA
	分辨率	±0.03Hz(5-6MHz),0.0136? /測量(鋁)
	測量精度	±0.5%厚度+1計數
	測量周期	100mS～1S/次（可設置）
	測量范圍	500,000 ? (鋁)
	晶體頻率	6MHz
	通訊接口	RS-232/485串行接口
	顯示位數	8位LED顯示
分子泵	分子泵抽速	80L/S
	額定轉速	65000rpm
	振動值	≦0.1um
	啟動時間	≦4.5min
	停機時間	<7min
	冷卻方式	風冷
	冷卻水溫度	≦37℃
	冷卻水流速	1L/min
	安裝方向	垂直±5°
	抽氣接口	150CF
	排氣接口	KF40
前級泵	抽氣速率	1.1L/S(VRD-4)
	極限真空	5×10-2Pa
	供電電源	AC:220V/50Hz
	電機功率	400W
	噪音	≦56db
	抽氣接口	KF40
	排氣接口	KF25
	放氣閥	真空腔體上裝有氣動電控放氣閥
整機極限真空		≦5×10-4Pa
真空腔體升壓率		≦2.5Pa/h
軟件系統		監控管理軟件1套
測試靶材		直徑2英寸厚度3mm的銅靶材2個